経営法務 令和2年度 第8問

　産業財産権に関する記述として、最も適切なものはどれか。

1. 国内優先権制度は、特許法及び意匠法には存在するが、実用新案法及び商標法には存在しない。
2. 出願公開制度は、特許法及び商標法には存在するが、実用新案法及び意匠法には存在しない。
3. 存続期間の更新制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新案法には存在しない。
4. 訂正審判制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新案法には存在しない。

解答・解説

解答

　イ

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解説

1. 国内優先権制度は、特許法及び意匠法には存在するが、実用新案法及び商標法には存在しない。
   不適切です。
   
   
2. 出願公開制度は、特許法及び商標法には存在するが、実用新案法及び意匠法には存在しない。
   適切です。
   
   
3. 存続期間の更新制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新案法には存在しない。
   不適切です。
   
   
4. 訂正審判制度は、意匠法及び商標法には存在するが、特許法及び実用新案法には存在しない。
   不適切です。
   
   

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